欢迎光临东莞市八溢自动化设备有限公司!

统一服务热线
15282129198
高级搜索:
联系我们Contact Us
统一服务热线:15282129198

(7天*24小时)

谈先生:15282129198

罗先生:13509200520

座机、传真:0769-81001406

网址:www.dgbayi.com

地址:广东省东莞市塘厦镇林村社区田心41号

常见问题

等离子技术抛光过程中理想的抛光温度是多少?

来源: 时间:2022-11-03 19:05:38 浏览次数:

等离子技术抛光过程中理想的抛光温度是多少?

抛光液的温度越低,材料的去除速度越快。低温条件下材料的去除速度快主要是因为:温度越低,抛光液被蒸发需要吸收的热量就越多,相同条件下生成的气体越少,包围在零件周围的混合气体层越薄,而在压强和电压不变的情况下,气体变薄就意味着电场强度增大,导致碰撞电离系数显著增大,虽然总的碰撞距离减小,但仍然有更多的电子冲击到工件表面,材料的去除速度当然更快。但在抛光液低温情况下,混合气体层较薄,也意味着气体层不太稳定,等离子抛光过程中断并转变一般电解的的可能性越大,同时气体层薄也意味着系统的电阻减小,电流增大,且电流值大幅度变化,常常引起零件尖锐部位烧蚀等现象,这对复杂形状零件和大尺寸零件来说特别明显。



随着抛光液温度的提高,等离子纳米抛光过程开始稳定,90-95℃属于理想加工温度范围,在这一范围内材料的去除速度虽然不是最快,却更容易获得更好的表面质量。温度继续升高将导致抛光液气化增强,混合气层温度升高厚度增加,加工时间也相应延长。当抛光液温度达到95-99℃时,等离子加工过程转到泡沫状态。抛光液沸腾,蒸气气层失去自身最初的尺寸和形状,整个零件处于连续移动的泡沫中,其电阻与等离子理想加工状态的气层电阻值相比大大提高,此时被加工表面电流也会减小。